作者简介:郑 凯,1996年生,男,山东省费县人,在读硕士研究生。
简单介绍石墨烯的结构和性质,简述石墨烯及石墨烯基光催化复合材料的制备方法,对近些年石墨烯基光催化复合材料在染料降解、有机污染物氧化、无机污染物处理、CO2还原、光催化裂解水产氢方面的研究进行综述。
The structure and properties of graphene were simply introduced,the preparation methods of graphene and graphene-based photocatalytic composite materials were summarized.The recent progresses of graphene-based photocatalytic composites in dye degradation,organic pollutant oxidation,inorganic pollutant treatment,CO2 reduction and photocatalytic hydrolysis of aquatic products were reviewed.
2004年, 英国曼彻斯特大学物理学家安德烈· 海姆和康斯坦丁· 诺沃肖洛夫通过胶带剥离法[1]成功地在石墨中剥离出石墨烯, 证明了二维单层晶体的存在, 并且在室温条件下可以稳定存在, 两人因此获得了2010年的诺贝尔物理学奖。
石墨烯具有优异的光、电、磁、力等物理化学性能, 在高性能复合材料、电子器件、太阳能电池、能量储存和催化材料等领域具有广阔的应用前景。本文简单介绍石墨烯的结构性质和制备方法, 综述石墨烯基光催化复合材料的制备方法以及近些年在光催化应用方面的研究情况。
石墨烯即单层厚度的石墨片, 是富勒烯、碳纳米管和石墨等碳材料的基本结构单元[2]。石墨烯由单层碳原子以sp2杂化成键形式所形成, 为具有蜂窝状六边形结构的二维原子晶体, 其内相邻碳原子通过σ 键连接, 夹角为120 ° , 键长约0.142 nm[3]。单层石墨烯的厚度仅0.35 nm, 是一种极为轻薄的材料。
石墨烯是一种典型的零带隙半金属材料[3]。石墨烯在可见光区具有极好的透光率, 单层石墨烯对可见光吸收率仅2.3%[4], 其透射率随层数增加而线性减小, 石墨烯在近红外和中红外波段也具有极高透明性。石墨烯具有出色的力学性能, 层间主要依靠范德华力和π 电子的耦合作用, 石墨烯的结构特点赋予其力学性能的各向异性, 平均断裂强度55 N· m-1, 杨氏模量(1.0± 0.1) TPa, 理想强度(130± 10) GPa[5], 是迄今发现力学强度最高的材料。石墨烯的热学性能同样优异, BalandinA A等[6]测得单层石墨烯热导率达5.2 kW· (m· K)-1, 远高于金刚石、碳纳米管等碳材料。石墨烯具有超大比表面积, 单层石墨烯理论比表面积为2 630 m2· g-1, 这赋予其极强的吸附能力。石墨烯在室温下的电荷迁移率大于15 000 cm2· (V· s)-1, 基本不受温度影响, 最高达2 000 000 cm2· (V· s
关于石墨烯的制备方法从机械剥离法[1]开始。发展至今, 石墨烯的制备方法主要有剥离法、氧化还原法、化学气相沉积法、外延生长法等。
剥离法包括机械剥离法和化学剥离法。机械剥离法[1]是指通过机械外力克服石墨层与层之间较弱的范德华力, 不断对石墨层进行剥离, 从而获得少层或单层石墨烯的方法。机械剥离法虽然可以快捷简便的制备具有完整晶格结构的石墨烯, 但产量低, 可控性差, 该方法主要集中在实验室基础研究。化学剥离法可在溶液中将块状石墨剥离成大量石墨薄片, 有望实现薄层石墨的大量制备。
氧化还原法是目前常用的制备方法, 可用于获得大量的石墨烯。该方法一般先将石墨进行氧化处理得到氧化石墨烯(GO), 再将得到的GO进行还原从而制得还原-氧化石墨烯(rGO)。制备GO的方法主要是Brodie法[8]、Staudenmaier法[9]、Hummers法[10]、改良的Hummers法[11]。目前, Hummers法和改良的Hummers法是制备GO的常用方法, 制备过程相对安全, 且能够制备品质较好的氧化石墨烯。对GO进行还原的方法主要有化学还原法[12]、电化学还原法[13]、热膨胀还原法[14]和氢气还原法[15]等。
化学气相沉积法(CVD)是在高真空气态条件下, 以含碳化合物为前驱体进行化学反应, 使含碳化合物在约1 000 ℃高温下沉积在衬底或催化剂表面形成石墨烯。Ruoff等最早使用CVD法在多晶Cu上生长了高质量的单层石墨烯[16]。CVD法能够制备出大尺寸石墨烯, 而且制备的石墨烯层数具有可控性, 适合大规模生产。但CVD法工艺复杂, 受衬底影响较大, 必须在高温下进行反应, 设备造价昂贵, 限制了其应用。
电弧放电法是一种常用于制备石墨烯、富勒烯和碳纳米管的方法。电弧放电是在一个填充有一定气体的密闭空间进行。电弧放电法可量产高质量石墨烯, 但难以获得大面积、单层的石墨烯。
外延生长法是指将石墨烯在其他晶体层表面进行生长, 可以选择过渡金属, 如Co[17]、Pt[18]、Ni[19]等作为石墨烯生长的外延层, 在高真空高温退火条件下, 将微量碳元素析出, 使其重新排列形成石墨烯, 也可使用具有催化活性的金属表面外延生长石墨烯, 使碳化氢吸附在金属表面, 高温催化制备石墨烯[20]。
石墨烯基光催化复合材料可以将石墨烯的优良性能与其他物质的一些特性结合起来, 进而提高材料的光催化性能, 有利于其在实际应用中发挥作用。石墨烯基光催化复合材料的制备方法主要有原位生长法[21]、水热或溶剂热法[22]和溶液混合法[23]等。
原位生长法是制备石墨烯基复合材料常用方法, 通常是选择GO和金属盐作为前驱体, 通过控制反应条件在石墨烯上生长出金属化合物晶核, 并将GO还原为rGO, 制备石墨烯基复合光催化剂。Lambert T N等[21]将TiF4加入到GO溶液中, 利用TiF4的水解作用, 在GO表面生成花状锐钛矿相TiO2。
水热或溶剂热法是制备半导体纳米材料的传统方法之一, 该方法可以将半导体纳米颗粒或前驱体均匀负载于石墨烯上, 目前该法在制备石墨烯基复合材料中被广泛使用。Zhu J等[22]通过水热法制备ZnFe-CLDH/RGO复合材料, 并研究不同石墨烯负载量对ZnFe-CLDH光催化性能的影响。在制备过程中, 将Zn(NO3)2· 6H2O、Fe(NO3)3· 9H2O、尿素与GO悬浮液混合, 通过水热在GO表面生长ZnFe-LDH, 最后焙烧制得ZnFe-CLDH/RGO复合材料。
混合溶液法是指简单地将石墨烯悬浮液与含有半导体或前驱物的金属盐溶液混合, 再经过简易的干燥、焙烧等制备复合材料的方法。该方法操作简便, 反应温和, 但难以使得石墨烯与半导体之间形成化学键合。Urtiaga等将商业TiO2加入到GO悬浮液中, 超声混合、120 ℃水热3 h制得TiO2/GO复合材料, 并研究了不同GO掺杂量对光催化降解全氟辛酸(PFOA)的影响[23]。
在光催化方面, 传统的半导体光催化剂受限于低的电子和空穴分离效率, 在实际应用中大为受限。石墨烯具有优良的导电性、热稳定性、吸附性和可控性, 可以对电子的转移过程产生影响, 同时, 可以对石墨烯的表面基团进行选择性修饰, 进而提升石墨烯的应用性能。因此, 石墨烯基复合材料在促进电荷空穴分离, 提高光催化活性方面具有十分明朗的应用前景。石墨烯复合材料在光催化的应用方面主要包括光催化染料降解、有机污染物氧化、无机污染物处理、光催化CO2还原和光催化水解产氢等。
过去的几十年里, 染料制造业和纺织业的迅速发展, 使得大量染料排放到水环境当中, 对水生环境和人体健康带来潜在危害。甲基橙、罗丹明B、亚甲基蓝等染料对人体有害, 并存在致癌作用, 研究表明[12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20], 石墨烯基复合材料对染料具有良好的降解效果。Wu M等[24]将氧化石墨烯溶液和氮化碳(CN)溶液加入到1-甲基-2-吡咯烷酮中超声制得棕色混悬液, 然后在棕色溶液中加入醋酸、十六烷基三甲基溴化铵, 搅拌混合后再加入钼酸钠和硫脲制得悬浮液, 转移到聚四氟乙烯内衬的不锈钢高压釜中, 200 ℃条件下水热, 制得GO/g-C3N4/MoS2花状异质结复合材料, 在可见光照射下, 以亚甲基蓝、罗丹明B和结晶紫为目标污染物进行了光催化降解实验, 60 min内亚甲基蓝、罗丹明B、结晶紫降解率分别为99%、78%、70%, 制得的纳米复合材料呈现出极佳的重复使用性和稳定性。Liu R等[25]将共沉淀法制备的Ag3PO4球形粒子与GO溶液超声、搅拌混合、离心, 得到不同GO质量比的Ag3PO4@GO复合材料, 在可见光下降解RhB染料, 结果表明, GO的加入使复合材料对RhB的吸附量明显提高, 与纯Ag3PO4相比, Ag3PO4@GO的光催化活性也明显提高, 40 min内Ag3PO4@10GO可将6 mg· L-1的RhB几乎完全降解。表1列出不同石墨烯基复合材料对染料的降解效果。
![]() | 表1 不同石墨烯基复合材料对染料的降解效果 Table 1 Degradation effect of different graphene-based composites on dyes |
全氟辛酸的性质稳定, 在环境中很难被分解, 广泛用于表面活性剂、消防泡沫、聚合物添加剂等方面。全氟辛酸可在人体内蓄积并且产生不良影响, 光催化技术降解全氟辛酸是一种可行的技术。Shang E等[33]采用水热法制得Pb-BiFeO3/rGO复合催化剂, 研究了催化剂用量、溶液pH值、污染物初始浓度以及GO掺杂量对全氟辛酸在紫外光照射下的降解效果, 结果表明, 在pH=2的情况下, 掺杂rGO质量分数为5%的复合催化剂对50 mg· L-1全氟辛酸降解率69.6%, TOC去除率28.0%, 脱氟率37.6%。Gomez-Ruiz B等[23]通过简易水热法将商业TiO2与GO悬浮液超声混合, 120 ℃水热3 h得到TiO2/GO复合材料, 并对比了商业TiO2和制备的复合材料在紫外光照射下对全氟辛酸的降解效果, 结果表明, 制备的复合材料对全氟辛酸12 h内可达到93± 7%的降解效果, TOC去除率60%, 降解效率是商业TiO2的4倍。
抗生素广泛应用于农业、畜牧业和人体健康等方面, 也造成大量抗生素进入环境中, 对环境和人类健康构成极大威胁。传统的生物处理法对抗生素去除效率较低, 使光催化技术成为抗生素降解的极佳选择。Liu H等[34]采用简单的化学共沉淀法在室温下合成g-C3N4/Ag2CO3/GO三元催化剂, 提出了一种可行的双Z型异质结机制降解污染物的方法。以四环素为目标污染物, 测定CN/AC/GO在可见光下的光催化活性, 60 min后, CN/AC/GO对四环素降解率达81.6%, 当辐照时间延长至100 min时, 四环素降解率可达97.6%。同时研究该催化剂对盐酸土霉素和左氧沙星的降解效果, 研究表明, CN/AC/GO对盐酸土霉素和左氧沙星降解率分别为71.8%和76.3%。进行多次循环试验后, 该催化剂的催化活性没有明显变化, 稳定性极佳。
Wei Q等[35]采用简易一锅水浴法在55 ℃水浴条件下合成Ag-Cu2O/rGO光催化剂, 表征结果表明, 还原氧化石墨烯包覆在Ag纳米粒子修饰的Cu2O八面体表面, rGO的掺杂不仅抑制催化剂表面电子空穴对的复合, 同时抑制了Ag纳米粒子的团聚, 在300 W的氙灯光源照射下, 在50 mL苯酚水溶液(10 mg· L-1)中加入50 mg光催化剂, 210 min内苯酚降解率达96.8%, 照射6 h后TOC去除率为64.5%, 该催化剂在可见光下对水中苯酚光降解的活性比纯Cu2O、Cu2O/RGO和Ag-Cu2O复合材料都好, 研究得到Ag-Cu2O/rGO的光降解速率常数为0.014 0 min-1, 分别是Ag-Cu2O、Cu2O/rGO和纯Cu2O的2.1倍、3.4倍和6.1倍。Deng F等[36]将制备的BiOCl/GO复合材料分散在去离子水中, 再加入还原铁粉, 随后加入盐酸(质量分数35%), 使混合物在超声和机械搅拌下保持8 h, 去除多余的铁粉, 对产物进行洗涤, 80 ℃干燥得到黑色的BiOCl-Bi-Bi2O3/rGO复合材料, 其对2-硝基苯酚光催化降解效率为99.7%, 同时能有效处理实际工业废水, COD去除率达70.3%。该催化剂经过4次循环试验后, 对2-硝基苯酚降解效率无显著变化。
无机污染物由于其不可生物降解性引起关注, 它会在生物体内积累并导致高毒性。六价铬是环境中毒性极强的无机重金属, 通过光催化可以将六价铬还原为毒性较弱的三价铬。Xu P等[37]通过表面活性剂辅助一锅水热法制备rGO/SnIn4S8复合材料, SnIn4S8纳米片均匀生长在rGO表面, 该复合材料具有极佳的去除铬离子的效果, 50 mg· L-1六价铬离子溶液在pH=2的条件下, 30 min几乎被还原为三价铬, 同时rGO作为吸附剂, 可协同吸附还原后的三价铬离子, 实验结果显示, 溶液的总铬离子降解率为98.3%, rGO/SnIn4S8对三价铬离子的吸附容量为12.8 mg· g-1, 对复合材料进行5次循环试验后, 六价铬离子降解率仍保持为95.6%。Wu M等[24]制备的GO/g-C3N4/MoS2花状异质结复合材料对Cr(Ⅵ )的光催化还原效果也比较显著, 经120 min处理后, 10 mg· L-1的Cr(Ⅵ )浓度可降至约2 mg· L-1。
NO是一种无色无味、难溶于水的有毒气体, 会对人体的呼吸道产生伤害, 同时也对土壤、大气、水环境带来威胁。Zhu G等[38]通过乙醇辅助溶剂热法制得Bi-BiOI/GO复合材料, 材料呈微球状, 直径(24) μ m, 石墨烯薄片生长在Bi-BiOI微球表面, 催化剂对NO表现出极好的催化效果, 在可见光照射下, 30 min可将51%的NO氧化为稳定的硝酸盐, 研究发现, 超氧自由基和空穴在氧化NO的过程中起到主要作用。
将CO2还原为燃料是解决当前环境和能源问题的一种极具前景的措施。CO2还原过程涉及C-O键的断裂和C-H键的形成, 这在温和条件下很难完成, 然而半导体光催化剂可驱动CO2还原过程, 光催化剂可将光能转化为化学能, 进而降低CO2还原的活化势垒。Xu D等[39]通过自组装沉淀法制备Ag2CrO4/g-C3N4/GO三元复合材料, 在模拟太阳光照射下, 可将CO2还原为CH4和CH3OH, 复合材料最高的CO2转化率为1.03 μ mol· g-1· 0.30 h -1, 相比C3N4和C3N4/Ag2CrO4对CO2的还原效率明显提高, 复合材料中GO作为电子受体促进了电荷分离, 同时也为光催化还原CO2提供了充足的活性位点。Zhao Y等[40]制备了由rGO包裹Pt/TiO2的(Pt/TiO2)@rGO复合催化剂, 扫描电镜清晰地观察到褶皱状的rGO包裹在八面体锐钛矿相TiO2表面, 在配有300 W的Xe灯密闭反应器中加入催化剂、CO2和H2O进行光催化还原CO2实验, 制备的(Pt/TiO2)@rGO-2可将99.1%的CO2选择性还原为CH4, 产甲烷率为41.3 μ mol· (g· h)-1, 且CO产生率极小, 仅0.4 μ mol· (g· h)-1, 产甲烷率是商业TiO2的31倍。
由于石墨烯独特的载流子迁移能力、巨大的比表面积以及化学稳定性等特性, 在产氢催化剂方面常被用做助催化剂, 可以作为电子介体或转运体来抑制半导体表面的光生电子空穴对的复合。
Boppella R等[41]通过水热自组装法和静电自组装法在钛酸镧表面依次引入rGO和层状双氢氧化物(NiFe-LDH)合成rGO/La2Ti2O7/NiFe-LDH异质结催化剂, 在模拟阳光下, 以10%三乙醇胺为空穴清洗剂进行光催化析氢实验, 最佳条件下氢气释放率为532.2 μ mol· (g· h)-1, 是单纯钛酸镧的9倍。紫外漫反射分析表明, rGO和NiFe-LDH的加入显著增强了钛酸镧在可见光区域的吸收; 电化学交流阻抗谱测试(EIS)表明, rGO纳米片和NiFe-LDH的引入有效降低了电极/电解质界面的总电荷转移电阻, 证明rGO和NiFe-LDH的引入促进了光生电子空穴对的分离。制备的异质结催化剂具有极佳的产氢稳定性, 连续4次运行产氢实验的产氢效率无明显改变。
近年来, 石墨烯基复合光催化材料在制备和应用方面取得了极佳的成绩, 石墨烯基复合材料在光催化降解染料、有机污染物氧化、无机污染物处理、光催化CO2还原和光催化水解产氢等方面具有极大的应用前景。但在实际应用中, 仍缺乏高效、廉价的石墨烯基光催化复合材料。随着环境污染和能源短缺等问题日益严重, 石墨烯基复合催化材料的研究也将更加深入, 更多技术成熟、性能优异的石墨烯基复合光催化材料也将进入人们的视线。
The authors have declared that no competing interests exist.
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